第28回 設計・製造ソリューション展（DMS）

図研は、来る6月21日から23日まで、東京ビッグサイトにて開催される「設計・製造ソリューション展（DMS）」に出展します。図研ブースでは、統合データ管理によるリアルタイム連携＆自動化によってケーブル設計品質の向上を実現する「E3.series」をご紹介します。「転記ミス」「システム間連携」「帳票の出力」「DRC」などでケーブル設計に課題を抱えている方は、図研ブースまでご来場ください。

さらに、今年は2つの新製品も合わせてご紹介します。
3D配索検討ツール「XVL Studio WR」は、回路図の接続情報を3D CADから変換したXVL上で配策の検討が行え、難しい3D CADの操作を覚えなくても、簡単に配策検討ができます。機器内のケーブル配策に課題を感じている方にお薦めします。

リスクベース・デザイン支援ツール「Visual Risk」は、機能安全IEC-61508におけるリスク分析・障害解析の効率化を実現する製品です。構想設計段階でのシステムの安全性・完全性担保が国際的な注目を集める中、機能安全のみならず、サイバーセキュリティ規格IEC-62443、品質マネージメント規格 改訂ISO-9001など、現代のモノづくりに必要不可欠なリスクベースデザインをサポートします。

電気設計に携わる方々、機能安全設計にご興味のある方々は、ぜひ図研ブースまでご来場ください。